Steffen Jaehne

Angestellt, Senior Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop), AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.

Dresden, Deutschland

Fähigkeiten und Kenntnisse

Lithographie
optical proximity correction (OPC)
design rules
chemical vapor deposition (CVD)
Design of Experiment (DoE)
Programmiersprachen
Prozesskontrolle / SPC
Auditor
Lean Six Sigma Green Belt
Projektmanagement
Defektdichte

Werdegang

Berufserfahrung von Steffen Jaehne

  • Bis heute 6 Jahre und 11 Monate, seit Juni 2017

    Senior Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop)

    AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Anlagenüberwachung und Matching, Defect Engineering, SPC, Lean Six Sigma , FMEA, Datenanalyse, Troubleshooting

  • 5 Jahre und 7 Monate, Nov. 2011 - Mai 2017

    Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop)

    AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Anlagenüberwachung und Matching, Defect Engineering, SPC, Lean Six Sigma , FMEA, Datenanalyse, Troubleshooting

  • 2 Jahre, Nov. 2009 - Okt. 2011

    Prozessingenieur für Plasma- und Nassätzprozesse

    NXP Semiconductors Germany GmbH

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Prozessübergreifendes Troubleshooting, Anlagenüberwachung und Matching

  • 1 Jahr und 9 Monate, Nov. 2007 - Juli 2009

    Systemexperte - Lithographie/Metrologie

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Entwicklungsingenieur (Fotolithographie) für "optical proximity correction and design rules", Bedienung produktionsrelevanter Belichtungs- und Messanlagen; Aufenthalte in Produktionslinien (Reinsträume); Planung, Durchführung, Auswertung & Dokumentation von Versuchsreihen

  • 4 Monate, Aug. 2007 - Nov. 2007

    Diplomand - Fotolithographie, optical proximity correction und desing rules

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Diplomand (Fotholithographie)

  • 5 Monate, März 2007 - Juli 2007

    Werkstudent - Fotolithographie, optical proximity correction und desing rules

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Werkstudent (Fotolithographie), Planung und Entwurf (calibre) einer Testmaske sowie Verifikation der gefertigten Maske

  • 5 Monate, März 2005 - Juli 2005

    Praktikant - chemical vapor deposition (CVD)

    Infineon

    Praktikant (CVD) Schwerpunkt "Desing of Expirement" und IR-Spektroskopie

  • 2 Monate, Juni 2002 - Juli 2002

    Werkstudent - chemical vapor deposition (CVD)

    Infineon

    Werkstudent (CVD)

Ausbildung von Steffen Jaehne

  • 5 Jahre und 1 Monat, Aug. 2002 - Aug. 2007

    Mikrosystemtechnik

    Hochschule Mittweida (FH) University of Applied Science

    www.htwm.de

Sprachen

  • Deutsch

    Muttersprache

  • Englisch

    Gut

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