Ihre Rolle

• Reinigungsprozesse (nasschemisch/trocken) für optische und mechanische Komponenten samt korrespondierenden Reinigungsanlagen entwickeln und in die Serienfertigung überführen

• die prozesstechnische Weiterentwicklung von Reinigungsprozessen intern sowie bei Lieferanten bezüglich der Sauberkeitsanforderungen der EUV- und DUV-Lithographie verantworten

• bereits etablierte chemische und physikalische Reinigungsprozesse betreuen und weiterentwickeln, sowie kontinuierlich Optimierungspotentiale bei den internen und externen Reinigungsprozessen identifizieren

• die Untersuchung von Oberflächen auf organische, molekulare und partikuläre Kontaminationen anhand analytischer Methoden kontinuierlich weiterentwickeln

• die Verantwortung einzelner Arbeitspakete übernehmen und hinsichtlich Timing, Kosten und Performance koordinieren und dem Projektmanagement regelmäßig berichten

• im Trouble-Shooting-Fall die interne Fertigung fachlich unterstützen und extern bei Reinigungsdienstleistern und Lieferanten Prozessabweichungen systematisch abstellen

Ihr Profil

• ein erfolgreich abgeschlossenes Studium der Chemie, Physik oder vergleichbar und/oder relevanter Kenntnisse auf dem Gebiet von Reinigungsprozessen als auch der Oberflächenanalytik (XPS, Restgasanalyse, AFM, TOF-SIMS)

• Erfahrungen auf dem Gebiet von Reinigungsverfahren (Prozesse u./o. Prozesshilfsstoffe) in der industriellen Umgebung

• Erfahrungen in der technologischen Zusammenarbeit mit Anlagenbauern

• ein hohes Maß an Team- und Kooperationsfähigkeit

• eine ausgeprägte Hands-on Mentalität sowie ein souveränes Auftreten

• sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift

Wenn Sie mehr über diese Stelle erfahren möchten, wenden Sie sich bitte an die zuständigen Recruiter: Miriam Meyer (miriam.meyer@zeiss.com) und Oliver Reith (oliver.reith@zeiss.com)

Ihr ZEISS Recruiting Team:

Miriam Meyer, Oliver Reith