Über uns

IFOS   -   Kompetenz in Oberflächenanalytik, Analytik dünner Schichten, Mikroanalytik, Nanoanalytik

Das Institut für Oberflächen- und Schichtanalytik GmbH beschäftigt sich mit der Anwendung und Entwicklung moderner Techniken zur chemischen, strukturellen und topographischen Analyse von Oberflächen, dünnen Schichten und Festkörpern.

Die Hauptarbeitsgebiete sind:

· Forschung und Entwicklung im Bereich der instrumentellen Oberflächenanalytik

· Auftragsanalytik, Anwendung der instrumentellen Oberflächen- und Schichtanalytik auf Fragestellungen in Forschung und Technik

· Transfer in Industrie und Wirtschaft

Hierzu wird im IFOS ein umfassendes Spektrum der heute verfügbaren Methoden zur höchstauflösenden chemischen und strukturellen Analyse von Oberflächen und dünnen Schichten eingesetzt:

Elektronenspektroskopie und Massenspektrometrie (AES, XPS bzw. SIMS, ToF-SIMS, SNMS und 3D Atomsonden-Tomografie APT) ermöglichen die Charakterisierung der chemischen Zusammensetzung von Oberflächen und Dünnschichtstrukturen mit hoher vertikaler sowie lateraler Auflösung bis in den Nanometerbereich.

Feinbereichsanalysen bis in atomare Dimensionen erlauben Rasterkraft- (AFM) und Transmissionselektronenmikroskopie (TEM).

Ferner stehen Anlagen zur Röntgenstrukturanalyse (XRD), Focused Ion Beam-Technik (FIB), Rasterelektronenmikroskopie (REM/EDX/EBSD) und die spektroskopischen Methoden Infrarotspektroskopie (FTIR) und Ramanspektroskopie zur Verfügung.

Die Messmethoden zur Kontaktwinkelmessung, Mikro- und Nanohärtemessung sowie Weißlichtinterferometrie (WLI) runden das Spektrum in unserem Labor ab. 

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