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Annika Zastrow

Angestellt, Process Development Engineer, Nexperia Germany GmbH
Abschluss: Master of Science, Hochschule für angewandte Wissenschaften München
Hamburg, Deutschland

Fähigkeiten und Kenntnisse

Halbleiter
Prozessoptimierung
Prozessanalyse
SPC
Diffusion
Oxidation
LPCVD
ASM A400
MOSFET
IGBT

Werdegang

Berufserfahrung von Annika Zastrow

  • Bis heute 4 Jahre, seit Juni 2021

    Process Development Engineer

    Nexperia Germany GmbH
  • 3 Jahre und 5 Monate, Jan. 2018 - Mai 2021

    Prozessingenieurin

    Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

    Diffusion

  • 1 Jahr und 6 Monate, Juli 2016 - Dez. 2017

    Entwicklungsingenieurin

    Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

    IGBT

  • 3 Jahre und 5 Monate, Feb. 2013 - Juni 2016

    Werkstudentin im Process Engineering und R&D

    Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

  • 5 Monate, Sep. 2012 - Jan. 2013

    Praktikantin in der Oberflächenanalytik

    Globalfoundries Dresden Module One LLC & Co.KG

  • 2 Jahre, Sep. 2010 - Aug. 2012

    Werkstudentin im Process Engineering

    Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

  • 2 Jahre und 11 Monate, Aug. 2007 - Juni 2010

    Ausbildung zur Mikrotechnologin

    Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

Ausbildung von Annika Zastrow

  • 2 Jahre und 7 Monate, März 2014 - Sep. 2016

    Mikro- und Nanotechnik

    Hochschule für angewandte Wissenschaften München

  • 3 Jahre und 6 Monate, Sep. 2010 - Feb. 2014

    Mikrotechnologien und elektronische Systeme

    Fachhochschule Westküste

  • 2 Jahre und 11 Monate, Aug. 2007 - Juni 2010

    Ausbildung zur Mikrotechnologin

    RBZ Itzehoe / Vishay Siliconix Itzehoe GmbH

Sprachen

  • Deutsch

    Muttersprache

  • Englisch

    Gut

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