Thomas Henke
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Fähigkeiten und Kenntnisse
Werdegang
Berufserfahrung von Thomas Henke
- Bis heute 4 Jahre und 11 Monate, seit Sep. 2020
Prozess- & Projektingenieur
Southwall Europe GmbH
• Verantwortung für Sputterprozesse zur Beschichtung von Folien • Dokumentation der Produktionsprozesse • Durchführung von Fehler- und Problemdiagnosen sowie Einleiten geeigneter Korrekturmaßnahmen • Stetige Verbesserung der Produktionsprozesse hinsichtlich Produktqualität, Ausbeute u. Produktivität • Mitarbeit bei der Entwicklung und Überführung neuer Produkte, Prozesse oder Technologien von F&E in die Fertigung • Planung, Durchführung, Auswertung u. Dokumentation von Projekten zur Prozessverbesserung
- 2 Jahre und 8 Monate, Juli 2017 - Feb. 2020
Entwicklungsingenieur Sputtern
Solibro Hi-Tech GmbH
• Optimierung und Weiterentwicklung von Sputterprozessen und -anlagen zur Herstellung von CIGS-Dünnschichtsolarmodulen • Ursachenanalyse von Prozess- und Anlagenproblemen und Maßnahmenableitung zur Problembehebung • Technische und technologische Inbetriebnahme von Sputter-Beschichtunganlagen in China • Transfer und Optimierung der Beschichtungsprozesse • Erstellen von Arbeitsanweisungen und Schulung von Mitarbeitern • kommissarische Leitung des Teams "Thin Film Development" (seit Mai 2019)
- 7 Jahre und 4 Monate, Nov. 2009 - Feb. 2017
Wissenschaftlicher Mitarbeiter und Doktorand
TU Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik
- Entwicklung vakuumbasierter Beschichtungsprozesse, - thermische Behandlung dünner Schichten (Tempern), - Charakterisierung dünner Schichten, - Präsentation der Ergebnisse auf internationalen Konferenzen und wissenschaftliche Zeitschriften, - Betreuung studentischer Abschlussarbeiten und Seminare
Ausbildung von Thomas Henke
- Bis heute 11 Jahre und 10 Monate, seit Okt. 2013
Promotion im Bereich Halbleitertechnik
TU Dresden
Promotionsthema: "Untersuchungen zum Einsatz des ms-Blitzlampentemperns bei der Atomlagenabscheidung von dünnen Schichten und für die Rekristallisation von amorphem Silizium" ALD, FLA, Silizium
- 7 Jahre und 1 Monat, Okt. 2002 - Okt. 2009
Elektrotechnik
TU Dresden
Mikroelektronik, Halbleitertechnologie
Sprachen
Deutsch
Muttersprache
Englisch
Fließend
Schwedisch
Grundlagen
Russisch
Grundlagen
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