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Dr. Michael Geisler

Bis 2018, Manager Research & Development, Solayer GmbH
Abschluss: Diplom, Eberhard-Karls-Universität Tübingen; Technische Universität Berlin
Wächtersbach, Deutschland

Fähigkeiten und Kenntnisse

Plasma-Technologie
Entwicklungsleitung
Prozessentwicklung
Physiker
Plasma-Verfahrenstechnologie
Nanotechnologie

Werdegang

Berufserfahrung von Michael Geisler

  • Bis heute 9 Jahre und 5 Monate, seit Jan. 2016

    Independent Consultant

    MG Vacuum Processes

    Sputtering, PECVD, Project Management

  • 1 Jahr und 9 Monate, Okt. 2016 - Juni 2018

    Manager Research & Development

    Solayer GmbH
  • 1 Jahr und 5 Monate, Juli 2014 - Nov. 2015

    Divisional Director | Research + Development

    Schmid Vacuum Technology

    Leiter Entwicklung

  • 4 Jahre und 4 Monate, Apr. 2010 - Juli 2014

    Divisional Director | Research + Development Department

    SCHMID Energy Systems

    Responsible for the development of a all-solid-state-Lithium cell and a all-Vanadium-Redox-Flow battery and related production equipment.

  • 4 Jahre und 3 Monate, Jan. 2006 - März 2010

    Director Research and Development

    Leybold Optics GmbH

    Heading and responsible for development and commissioning of process and hard ware for the production of tandem solar cells, as well as for process and hard ware of architectural glass coaters.

  • 5 Jahre und 3 Monate, Okt. 2000 - Dez. 2005

    Lead of PECVD /PVD Development

    Leybold Coating GmbH / Applied Films GmbH

    Heading and responsible for development of process hard ware and process and for process commissioning of architectural glass coaters

  • 5 Jahre und 4 Monate, Juni 1995 - Sep. 2000

    Project Leader

    Leybold Systems / Balzers-Process Systems / Unaxis

    Responsible for the development of PECVD process tooling for the coating of magnetic mass storage disks.

  • 11 Jahre und 1 Monat, Juni 1984 - Juni 1995

    Head of R&D Team

    Leybold AG

    Team Leader of the laboratory for the development of PVD and PECVD tooling for large area thin film processes in vacuum coaters.

Ausbildung von Michael Geisler

  • 6 Jahre und 2 Monate, Juli 1972 - Aug. 1978

    Physics

    Eberhard-Karls-Universität Tübingen; Technische Universität Berlin

    atomic physics, system- and automation theory, spectroscopy, laser application, plasma physics, vacuum process technology

Sprachen

  • Deutsch

    Muttersprache

  • Englisch

    Fließend

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