
Carine Tchamebong
Fähigkeiten und Kenntnisse
Werdegang
Berufserfahrung von Carine Tchamebong
• Entwicklung und Optimierung von Silizium Carbid-Plasma-Ätzprozessen in der Serienfertigung • Durchführung von DOE (Design of Experiments) zur nachhaltigen Prozessverbesserung • Verantwortung für Einzelprozesse im Bereich Ätzen • Betreuung von Ätzanlagen und Prozessmodulen sowie Definition, Pflege und kontinuierliche Optimierung der Prozessrezepte zur Gewährleistung einer stabilen Prozessführung
• Selbständige Planung / Umsetzung der Inbetriebnahme und Einrichtungen von Anlagen und Maschinen • Koordination und Begleitung von Abnahmeläufen bis zur Endabnahme • Erstellung von Prozess und Ablaufbeschreibungen • Umsetzung notwendigen Maßnahmen zur Erreichung der Prozessspezifikation/ Leistungsparameter
- 2 Jahre und 7 Monate, Feb. 2021 - Aug. 2023
Manufacturing Engineer Process Patterning
Robert Bosch semiconductor Dresden
• Inbetriebnahme und Qualifikation von neuen Anlagen durch selbständiges Umsetzen von Experimenten (MAE-Freigabe) • Qualitätssicherung der Produktionsprozesse; Analyse von Anlagen und Prozessfehlern sowie Erarbeitung entsprechender Korrekturmaßnahmen; Unterstützung bei Prozessfreigaben und Projekten • Evaluation von Messverfahren für die Prozessfreigabe • Rezepte an Messgeräte optimieren (AFM und Schichtdicke)
• Durchführung der Ätzrate zur Kontrolle der Selektivität und Uniformität von Schichten für neue Prozesse • Untersuchung der Wechselwirkung von Rezept durch die Variation von Parametern (Druck, Spannung, Gas) • Auswertung der Ergebnisse mit CEDA und Optimierung des Rezepts • Kontrolle der Prozesskammer der Prüfanlage mit Messgeräten
• Durchführung von Kontaminationsversuchen und Ermittlung der Defektdichte mit Hilfe einer blanken Si-scheibe • Prozessieren der Vapor Phase Decomposition zum Erhalt der Metallkontaminationen • Analyse der fault detection and classification Parameter und der optischen Emission Spektren
• Erstellen des Ätzrezepts mit unterschiedlichen Recipe-steps und verschiedene Prozessparameter (Argon-Fluss und Leistung) • Prozessieren eines Si-Wafers und Aufnahme des Ar-Spektrums je Prozessmodule • Einfluss einzelner Prozessparameter (Leistung, Gas und Druck) auf Ätzrate und Uniformität
Ausbildung von Carine Tchamebong
- 5 Jahre und 6 Monate, Okt. 2014 - März 2020
Mikrosystemtechnik
Ostbayerische Technische Hochschule (OTH) Regensburg
Schwerpunkte: Mikroelektronik, Mikromechanik, Analoge- und Digitaltechnik, Messtechnik
Sprachen
Deutsch
Fließend
Englisch
Gut
Französisch
Muttersprache
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