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Dieter Nees

Angestellt, Team-Leiter Lithographie, Sensitec
Dresden, Deutschland

Fähigkeiten und Kenntnisse

solide naturwissenschaftliche Kenntnisse - Photoc
Makromolekulare Chemie
Kolloid-und Grenzflächenwissenschaften
Promotion in Physikalischer Chemie
10 Jahre Engineering-Erfahrung in der Halbleiterei
Nanostrukturierung
Photo-Lithographie bis 45nm
Projektmanagement
Statistische Prozess-Kontrolle

Werdegang

Berufserfahrung von Dieter Nees

  • Bis heute 16 Jahre und 5 Monate, seit 2009

    Team-Leiter Lithographie

    Sensitec

    Koordination der Photo-Lithographie-Abteilung Equipment & Prozess

  • 9 Jahre und 2 Monate, Apr. 2000 - Mai 2009

    Senior Engineer

    Infineon/Qimonda

    Entwicklung und Kontrolle von Photo-Lithographie-Prozessen für die DRAM-Fertigung in der Dresdner Pilot-Fab, stellvertretende Projektleitung, Technologietransfer im Fab-Cluster nach USA, Taiwan und China

Ausbildung von Dieter Nees

  • 2 Jahre, Mai 1997 - Apr. 1999

    Chemie

    University of Hull

    PostDoc in der Surfactant Science Group Kolloid- Grenzflächenchemie

  • 9 Jahre und 10 Monate, Okt. 1986 - Juli 1996

    Chemie

    Universität Siegen

    Makromolekulare Chemie, Photochemie, Kolloid- und Grenzflächenchemie, Promotion in Physikalischer Chemie über "Wechselseitige Beeinflussung der Struktur mizellarer Systeme und der Photochemie solubilisierter Stilbenderivate"

Sprachen

  • Deutsch

    Muttersprache

  • Englisch

    Fließend

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