Dr. Ralf Bandorf

Angestellt, Gruppenleiter Hochionisierte Plasmen und PECVD, Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST
Braunschweig, Deutschland

Fähigkeiten und Kenntnisse

Dünnschichttechnologie
Mikrotribologie
integrierte Sensorik
Dünnschichtsensorik
sensorisch Beschichtungen
funktionelle Beschichtungen
Prozessentwicklung
HPPMS (High Power Pulse Magnetron Sputtering)
HiPIMS (High Power Impluse Magnetron Sputtering)
Vakuumtechnik
Oberflächentechnik
wissenschaftliche Beratung
Physikalische Gasphasenabscheidung
PVD
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung
PECVD
PACVD
magnetische Funktionsschichten
elektrische Funktionsschichten
eletrische Isolationsschichten
Plasmacharakterisierung

Werdegang

Berufserfahrung von Ralf Bandorf

  • Bis heute 7 Jahre und 6 Monate, seit Feb. 2018

    Distinguished Chair Professor

    Feng Chia University, Taichung, TW

  • Bis heute 10 Jahre und 7 Monate, seit Jan. 2015

    Gruppenleiter Hochionisierte Plasmen und PECVD

    Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST

    Hochionisierte Plasmen und PECVD

  • 8 Jahre, 2007 - Dez. 2014

    Gruppenleiter Sensorische Funktionsschichten

    Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST

  • 8 Jahre und 2 Monate, Dez. 1998 - Jan. 2007

    wissenschaftlier Mitarbeiter, Projektleiter

    Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST

Ausbildung von Ralf Bandorf

  • 3 Jahre und 2 Monate, Dez. 1998 - Jan. 2002

    Maschinenbau

    Fraunhofer IST / TU Braunschweig

    Ultradünne tribologische Schichtsysteme für elektromagnetische Mikroaktuatoren - Mirktribologie

  • 5 Jahre und 2 Monate, Okt. 1993 - Nov. 1998

    Physik

    Friedrich-Alexander Universität Erlangen-Nürnberg

    Festkörperphysik

Sprachen

  • Deutsch

    -

  • Englisch

    -

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