Steffen Jaehne

Angestellt, Senior Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop), AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.
Dresden, Germany

Fähigkeiten und Kenntnisse

Lithographie
optical proximity correction (OPC)
design rules
chemical vapor deposition (CVD)
Design of Experiment (DoE)
Programmiersprachen
Prozesskontrolle / SPC
Auditor
Lean Six Sigma Green Belt
Projektmanagement
Defektdichte

Werdegang

Berufserfahrung von Steffen Jaehne

  • Current 9 years, since Jun 2017

    Senior Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop)

    AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Anlagenüberwachung und Matching, Defect Engineering, SPC, Lean Six Sigma , FMEA, Datenanalyse, Troubleshooting

  • 5 years and 7 months, Nov 2011 - May 2017

    Prozessingenieur - Lithographie Prozess (Resist Coat, PEB & Develop)

    AMTC Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG.

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Anlagenüberwachung und Matching, Defect Engineering, SPC, Lean Six Sigma , FMEA, Datenanalyse, Troubleshooting

  • 2 years, Nov 2009 - Oct 2011

    Prozessingenieur für Plasma- und Nassätzprozesse

    NXP Semiconductors Germany GmbH

    Prozessentwicklung, Prozessüberwachung, Prozessoptimierung, Prozessübergreifendes Troubleshooting, Anlagenüberwachung und Matching

  • 1 year and 9 months, Nov 2007 - Jul 2009

    Systemexperte - Lithographie/Metrologie

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Entwicklungsingenieur (Fotolithographie) für "optical proximity correction and design rules", Bedienung produktionsrelevanter Belichtungs- und Messanlagen; Aufenthalte in Produktionslinien (Reinsträume); Planung, Durchführung, Auswertung & Dokumentation von Versuchsreihen

  • 4 months, Aug 2007 - Nov 2007

    Diplomand - Fotolithographie, optical proximity correction und desing rules

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Diplomand (Fotholithographie)

  • 5 months, Mar 2007 - Jul 2007

    Werkstudent - Fotolithographie, optical proximity correction und desing rules

    Qimonda GmbH& Co. OHG

    Werkstudent (Fotolithographie), Planung und Entwurf (calibre) einer Testmaske sowie Verifikation der gefertigten Maske

  • 5 months, Mar 2005 - Jul 2005

    Praktikant - chemical vapor deposition (CVD)

    Infineon

    Praktikant (CVD) Schwerpunkt "Desing of Expirement" und IR-Spektroskopie

  • 2 months, Jun 2002 - Jul 2002

    Werkstudent - chemical vapor deposition (CVD)

    Infineon

    Werkstudent (CVD)

Ausbildung von Steffen Jaehne

  • 5 years and 1 month, Aug 2002 - Aug 2007

    Mikrosystemtechnik

    Hochschule Mittweida (FH) University of Applied Science

    www.htwm.de

Sprachen

  • German

    C2 (Verhandlungssicher / Muttersprachlich)

  • English

    B1-B2 (Gute Kenntnisse)

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