Dipl.-Ing. Jens Haßmann
Fähigkeiten und Kenntnisse
Werdegang
Berufserfahrung von Jens Haßmann
- 8 years and 5 months, Feb 2012 - Jun 2020
Prozessingenieur Integration / Technologieentwicklung
GLOBALFOUNDRIES Dresden
Layout-Analysen und Maskendatenaufbereitung Tapeouts / Produkteinführungen Layout/Prozess Charakterisierungen, Detektierung von Schwachstellen, Definition und Einführung von Verbesserungsmaßnahmen Definition von Tests, Bewertung von Ergebnissen innerhalb Maskendatenaufbereitung, z.B. DRC, Target, ORC/LMC, Masken-Kompatibilität Definition, Einführung / Optimierung von OPC Lösungen und DFM Elementen, z.B. SMO Beleuchtung, strukturbasierte Layout-Modifikation, Double Patterning
- 2 years and 1 month, Jan 2010 - Jan 2012
Prozessingenieur Lithographie / OPC
GLOBALFOUNDRIES Dresden
Charakterisierung von Strukturierungsprozessen (Lithografie, Plasmaätzen), Erstellung von Prozessmodellen für OPC-Anwendungen Entwicklung, Umsetzung und Analyse von Prozesskorrekturen
- 5 months, Aug 2009 - Dec 2009
Prozessingenieur Strukturierung
Solibro GmbH
Inbetriebnahme, Überwachung und Optimierung von Anlagen und Prozessen zur mechanischen und Laser-Strukturierung von Dünnschicht-Solarmodulen
- 4 months, Apr 2009 - Jul 2009
-
PTG gGmbH
- 7 months, Sep 2008 - Mar 2009
Anlagen-/Prozessingenieur Lithographie
Qimonda Dresden
Analyse von Maschinen-, Prozess- und Produktdaten Verbesserung der Anlagen- und Prozess-Stabilität Lithographie Optimierung von Alignment / Overlay
- 1 year and 5 months, Apr 2007 - Aug 2008
Produktingenieur Technologieentwicklung NAND-Flash
Qimonda Dresden
Definition von Design-Regeln, Maskenspezifikationen u. Layout-Konzepten Layout-Manipulation und Maskendatenaufbereitung für Technologieentwicklung und Produkteinführungen
- 5 years and 8 months, Aug 2001 - Mar 2007
Prozessingenieur Lithographie u. Teamleiter Masken/OPC
Infineon / Qimonda Dresden
Prozess-Charakterisierungen, Prozess-Modelle und -Korrekturen Etablierung von simulationsbasiertem OPC im Fertigungsumfeld Einführung von Hilfs- und Füllstrukturen in Produkt-Layouts Einführung von OPC für asymmetrische Beleuchtungen Verbesserung der OPC-Genauigkeit Sicherstellung der Maskenverfügbarkeit für Produktion und Entwicklung (Spezifikationen, Qualifikationen, Monitoring, Beschaffung/Logistik) Koordination von Arbeitsgruppen Mitarbeit in und Leitung von Entwicklungs- und Linien-Projekten
- 3 years and 10 months, Oct 1997 - Jul 2001
Anlagen-/Prozessingenieur Lithographie
Siemens Microelectronics / Infineon Dresden
Anlagenspezifikationen und Abnahmetests Evaluierung und Inbetriebnahme von KrF und ArF Lithographie-Anlagen Überwachung der Anlagen- und Prozess-Stabilität Entwicklung und Betreuung der anlagenspezifischen Prozesse Optimierung und Weiterentwicklung der Anlagen zusammen mit Herstellern Evaluierung des Mix-&-Match-Betriebes von Scannern und Steppern Verbesserung und Stabilisierung der Overlay-Genauigkeit
- 2 months, Aug 1997 - Sep 1997
wissenschaftl. Mitarbeiter Strukturierung
TU Chemnitz, Zentrum für Mikrotechnologien
Maskenzentrum, Lithographie, E-Beam-Schreiber
Ausbildung von Jens Haßmann
- 7 months, Oct 1995 - Apr 1996
Electrical Engineering
University of Limerick, Ireland
semiconductor technology, optical lithography
- 6 years and 10 months, Oct 1990 - Jul 1997
Elektrotechnik / Informationstechnik
TU Chemnitz, Deutschland
Halbleitertechnologie, elektronische Bauelemente, Schaltungstechnik, Nachrichtentechnik
Sprachen
German
C2 (Verhandlungssicher / Muttersprachlich)
English
C1 (Fließend)
Russian
A1-A2 (Grundkenntnisse)
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