Dr. Pavel Prunici

Angestellt, Process Engineer, GlobalFoundries
Dresden, Germany

Fähigkeiten und Kenntnisse

PVD
LPCVD
PECVD
Sputtering
Dünnschichttechnologie
Dünnschicht/Oberfläche –Behandlung/Charakterisieru
Photovoltaik
Optische Messtechnik
simulation
Visual Studio .NET C#
MSSQL
Vacuum Technology

Werdegang

Berufserfahrung von Pavel Prunici

  • Current 5 years and 9 months, since Sep 2020

    Process Engineer

    GlobalFoundries
  • Current 7 years and 7 months, since Nov 2018

    Projektleiter und Projekt Ingenieur

    Unity Semiconductor GmbH

  • 5 years and 10 months, Jan 2013 - Oct 2018

    Prozessentwickler

    Solayer GmbH
  • 4 years and 4 months, Sep 2008 - Dec 2012

    Prozess- und Entwicklungs- Ingenieur

    Malibu GmbH & Co. KG

    • Anlagenverantwortung für eine Labor PECVD-Anlage, Abscheidung (Sputtering, PVD, LPCVD und PECVD), Charakterisierung und Prozessoptimierung dünner Schichten (ZnO, Si, SiGe) für Solarzellen • Einführung neuer Messverfahren (basiert auf FTIR, Raman, UV-Vis, AFM) zur TCO (ZnO, SnO) und Absorberschichten (a-Si, µc-Si, SiGe) Charakterisierung in Solarzellen • Zusammenarbeit mit Projektpartnern und Kooperationsfirmen • Aufbau eines Effusionsmessplatzes samt Softwareentwicklung für die Messungen und Auswertun

  • 8 months, Jan 2008 - Aug 2008

    Postdoc

    Institut für Physikalische Chemie, Uni Heidelberg

    • Herstellung und Untersuchung von ultra-dünnen Schichten • Laser -Prozessierung und Strukturierung von Si Schichten • Chemische Modifizierung von Si Oberflächen • Laserinduzierte Oxidierung und Untersuchung von Mono- und Submonolagenschichten • Softwareentwicklung für die Automatisierung der Messverfahren und Datenbearbeitung • Leitung der Übungsgruppe zur Vorlesung „Oberflächenchemie“ und „Materie und Spektren“ • Netzwerkadministrator und EDV Verantwortlicher des Arbeitskreises Prof. Dr. P. Hess

  • 3 years and 3 months, Oct 2004 - Dec 2007

    Promotion

    Institut für Physikalische Chemie, Uni Heidelberg

    Untersuchung von ultra-dünnen Schichten auf Siliziumoberflächen mit RKM, FTIR und ellipsometrischen Messverfahren

Sprachen

  • German

    C1 (Fließend)

  • English

    C1 (Fließend)

  • Russian

    C1 (Fließend)

  • Romanian

    C2 (Verhandlungssicher / Muttersprachlich)

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