Dr. Marcus Deschauer
Fähigkeiten und Kenntnisse
Werdegang
Berufserfahrung von Marcus Deschauer
- 1 Jahr und 11 Monate, Apr. 2019 - Feb. 2021
Senior-Optikdesigner
Leica Camera AG
Integration der LC Light & Imaging Systems GmbH in die Leica Camera AG. Tätigkeit unverändert (siehe LC Light & Imaging Systems GmbH). Zusätzlich Mitarbeit an internen Projekten im Bereich Sportoptik.
- 2 Jahre und 3 Monate, Jan. 2017 - März 2019
Senior-Optikdesigner
LC Light & Imaging Systems GmbH - ein Unternehmen der Leica Camera AG
Design von Objektiven für mobile Anwendungen mit hochgradig asphärischen Kunststofflinsen und gepressten asphärischen Glaslinsen. Entwicklung Photographischer Objektive für Mobile-Phone-Kameras. Entwicklung von Spezial-Objektiven für Time-of-Flight Anwendungen in mobilen Geräten. Patentanmeldungen DE 10 2018 111 669 A1 und DE 10 2019 100 944 A1.
Entwicklung preisgünstiger Standard-Objektive für die Verkehrsüberwachung (Xenon-Topaz-Reihe). Entwicklung kundenspezifischer Objektive für die 3D-Vermessung. Verhandlung von Spezifikationen mit internationalen Kunden. Studie über Hochleistungsobjektive für Virtual-Reality-Anwendungen. Forschungsprojekt: Desensibilisierung optischer Designs. Forschungsprojekt: Temperatursimulation von Fassungstechniken.
- 6 Jahre und 6 Monate, März 2006 - Aug. 2012Qioptiq Photonics GmbH & Co. KG
Optikdesigner und Systemingenieur
Design, Simulation und Tolerierung komplexer optischer Systeme im UV, VIS und NIR. Erarbeitung von Mess- und Justage-Strategien für beugungsbegrenzte Systeme (Wellenfrontmessung). Entwicklungen auf dem Gebiet der Augenoptik: Fundus-Kamera, UV-Laserkeratom, Presbyopie-Laser (Studie). Verhandlung von Spezifikationen mit Kunden, interne Abstimmung mit Konstruktion, Fertigung und Messtechnik. Weiterentwicklung der hauseigenen Optik-Software (Zernike-Polynome). Durchführung interner Optik-Schulungen.
- 1 Jahr und 9 Monate, Juni 2004 - Feb. 2006
Wissenschaftlicher Mitarbeiter
Carl Zeiss SMT AG (über FERCHAU Engineering GmbH)
Entwicklung optischer Projektionssysteme für die Mikrolithographie. Erstellung von Toleranzen, Spezifikationen und Korrektionsverfahren zur Sicherstellung der optischen Performance. Bewertung der Systeme hinsichtlich der Effekte von thermischen Linsen (Verbindung von FEM und Optiksimulation). Erarbeitung und Implementierung optischer Simulationsmodelle (Quarz-Degradation durch UV-Strahlung).
- 1 Jahr, Juni 2003 - Mai 2004
Stellensuche
Ohne Arbeit
Einarbeitung in die Halbleitertechnik (Literaturstudium).
- 3 Jahre, Juni 2000 - Mai 2003
Entwicklungsingenieur
EPCOS AG
Entwicklung von Modellen und CAD-Werkzeugen für die Simulation von Oberflächenwellenfiltern (Bandpassfilter für den Mobilfunk). Bestimmung der Modellparameter für die Simulationsmodelle sowohl mit experimentellen als auch numerischen (FEM) Verfahren. Erfolgreiche Integration einer Passivierungsschicht in die Simulation. Betreuung einer Diplomarbeit.
Ausbildung von Marcus Deschauer
- 4 Jahre, Juni 1996 - Mai 2000
Institut für Kristallographie
Universität München
Oberflächenphysik, Vakuumtechnik (UHV), Molekularstrahlepitaxie. Elektronenbeugung (LEED), Programmentwicklung. Betreuung vorlesungsbegleitender Übungen
- 7 Jahre und 3 Monate, Nov. 1988 - Jan. 1996
Technische Physik
Technische Universität München
Atomphysik, Festkörperphysik, Streutheorie. Numerische Lösung von Differentialgleichungssystemen.
Sprachen
Deutsch
Muttersprache
Englisch
Fließend
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